北京三和聯(lián)公司廠房
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歡迎訪問北京三和聯(lián)科技有限公司官網(wǎng)！北京三和聯(lián)是一家國內(nèi)自主研發(fā)干法刻蝕設(shè)備、離子束刻蝕機、等離子刻蝕機等半導(dǎo)體設(shè)備的廠商，“SHL”是三和聯(lián)創(chuàng)立的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備品牌。
產(chǎn)品中心
國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠商
離子束刻蝕Ion Beam Etching - (IBE)
感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機臺 (ICP)
反應(yīng)離子刻蝕機臺 (RIE)
桌面型等離子體刻蝕機 (SV-RIE)
電容耦合等離子體增強化學(xué)氣相沉積 (CCP-CVD)
爐管式化學(xué)氣相沉積(TFCVD)
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物理氣相沉積與刻蝕設(shè)備(IBSD)
物理氣相沉積機臺(PVD)
了解更多國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備 >>
行業(yè)應(yīng)用
為您提供高端微納材料加工設(shè)備
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二維材料生長
北京三和聯(lián)堅持自主研發(fā)二維材料生長設(shè)備系列產(chǎn)品，國產(chǎn)二維材料生長機臺應(yīng)用方向：WS2、MoS2二維材料 4 英寸晶圓級生長。該欄目為您展示二維材料生長機臺應(yīng)用結(jié)果...
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二維材料刻蝕
北京三和聯(lián)致力于國產(chǎn)二維材料刻蝕設(shè)備研發(fā)與生產(chǎn)，三和聯(lián)是一家國內(nèi)二維電子薄膜材料刻蝕設(shè)備生產(chǎn)廠商。二維材料刻蝕機臺主要應(yīng)用：1. 2D 材料減層刻蝕，制備單層 ....
失效分析
北京三和聯(lián)是中國國產(chǎn)失效分析設(shè)備廠商之一，該欄目向您展示國產(chǎn)反應(yīng)離子刻蝕的功能，電感耦合等離子體刻蝕的功能，離子束刻蝕的功能及芯片失效分析刻蝕機臺應(yīng)用等...
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Si基材料刻蝕
北京三和聯(lián)科技有限公司專注于國產(chǎn)Si基材料刻蝕系列產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)，是國內(nèi)堅持自主研發(fā)的二維材料刻蝕設(shè)備廠商之一。關(guān)于材料刻蝕方面的應(yīng)用，包括國產(chǎn)Si基材料刻蝕...
三和聯(lián)半導(dǎo)體設(shè)備應(yīng)用詳情 >>
技術(shù)文庫
技術(shù)指導(dǎo)與科研成果
北京三和聯(lián)科技有限公司—專注于國產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備研發(fā)
在半導(dǎo)體制造核心環(huán)節(jié)中，干法刻蝕設(shè)備的地位舉足輕重。長期以來，高端市場被國際廠商主導(dǎo)，實現(xiàn)國產(chǎn)替代成為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。北京三和聯(lián)科技有限公司，作為一家專注于自主研發(fā)的國內(nèi)品牌，正致力于打破這一格局。
半導(dǎo)體設(shè)備等離子體預(yù)處理/清洗機
半導(dǎo)體制造中的等離子體預(yù)處理是該工藝利用電離氣體清潔和活化表面，從而提高諸如引線鍵合和芯片貼裝等工藝的附著力和可靠性。三和聯(lián)自主研發(fā)“SHL”等離子體預(yù)處理/清洗機是國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)品牌，歡迎您的咨詢與蒞臨考察。
國產(chǎn)爐管化學(xué)氣相沉積設(shè)備
爐管化學(xué)氣相沉積（CVD）系統(tǒng)利用管式爐，通過氣態(tài)前驅(qū)體的化學(xué)反應(yīng)，在基材上沉積薄膜或涂層。北京三和聯(lián)是自主研發(fā)爐管化學(xué)氣相沉積設(shè)備廠商，SHL是國內(nèi)優(yōu)質(zhì)化學(xué)氣相沉積設(shè)備品牌。該工藝包括將基底置于管式爐內(nèi)加熱，并引入反應(yīng)氣體，反應(yīng)氣體在加熱的基底上分解形成固體薄膜。這些系統(tǒng)對于制備高性能材料（例如半導(dǎo)體、碳納米管和二維材料）至關(guān)重要。
離子束蝕刻和清洗
離子束清洗是一種將高能離子束導(dǎo)向基材以去除污染物的工藝。去除這些污染物可以增強附著力，并改善薄膜與基材之間的界面。 在離子束蝕刻中，離子的能量較大，能夠從基板表面濺射出材料。離子束蝕刻可用于減薄層或透過掩模定義特征。
電感耦合等離子體反應(yīng)離子刻蝕（ICP RIE）
電感耦合等離子體反應(yīng)離子刻蝕（ICP RIE）是一種先進的技術(shù)，旨在實現(xiàn)高刻蝕速率、高選擇性和低損傷加工。由于等離子體可在低壓下維持，因此還能提供出色的輪廓控制。
薄膜沉積設(shè)備
本文由北京三和聯(lián)向您講述半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備市場趨勢及標(biāo)準外延工藝的薄膜沉積設(shè)備步驟。了解更多沉積設(shè)備請與我們?nèi)〉寐?lián)系：18910215538
蝕刻：SHL離子束蝕刻機
北京三和聯(lián)科技有限公司是一家離子蝕刻機制造商，我們研發(fā)的離子束蝕刻機是一款多功能離子蝕刻設(shè)備。如果您對我們的離子束蝕刻機有興趣請給我們致電：18910215538
等離子刻蝕機丨什么是等離子蝕刻或干蝕刻？
蝕刻是將一種材料從另一種材料表面去除的過程。北京三和聯(lián)自主研發(fā)的國產(chǎn)等離子蝕刻機經(jīng)過長期工藝驗證和客戶現(xiàn)場實際應(yīng)用，在國內(nèi)積和國際累了大量有效工藝參數(shù)和經(jīng)驗。
金屬復(fù)合生長設(shè)備及金屬化合物刻蝕設(shè)備
金屬化合物刻蝕設(shè)備通常指的是在半導(dǎo)體制造、微電子、微機械系統(tǒng)（MEMS）以及精密零件加工等領(lǐng)域，用于精確去除金屬化合物薄膜或材料的專用設(shè)備。這些設(shè)備主要采用干法刻蝕（Dry Etching）或濕法刻蝕（Wet Etching）技術(shù)。 北京三和聯(lián)科技有限公司專注于國產(chǎn)金屬復(fù)合生長設(shè)備研發(fā)與生產(chǎn)的廠商，北京三和聯(lián)（“SHL”）是國內(nèi)金屬化合物刻蝕設(shè)備優(yōu)秀品牌。在材料生長設(shè)備領(lǐng)域，三和聯(lián)有著獨到的經(jīng)驗和技術(shù)。歡迎訪問我們的官網(wǎng)，了解更多國內(nèi)材料生長設(shè)備品牌相關(guān)信息。
硅基材料生長設(shè)備
什么是硅基材料刻蝕？ 本文將解答您關(guān)于該工藝的所有疑問，從所用設(shè)備到工藝本身。如果您仍然不確定，我們建議您閱讀不同類型的（干法）蝕刻知識，以便更好地理解整個工藝。
國產(chǎn)薄膜沉積設(shè)備
這些數(shù)量可以幫助確定對于給定的應(yīng)用是否最好使用特定的技術(shù)。?北京三和聯(lián)科技有限公司是一家自主研發(fā)國產(chǎn)薄膜沉積設(shè)備的制造商。經(jīng)過長期工藝驗證和客戶現(xiàn)場實際應(yīng)用，在國內(nèi)積和國際累了大量有效工藝參數(shù)和經(jīng)驗，并可實現(xiàn)硅深刻蝕。北京三和聯(lián)科技創(chuàng)國產(chǎn)薄膜沉積設(shè)備品牌，為國內(nèi)薄膜沉積設(shè)備刻助力！ 北京三和聯(lián)是一家薄膜沉積設(shè)備供應(yīng)商。薄膜沉積框架的開發(fā)和生產(chǎn)是我們的主要業(yè)務(wù)之一。 我們是物理沉積（PVD：物理氣相沉積）方面的專家，無論是通過...
二維材料如何改變光刻和半導(dǎo)體制造
北京三和聯(lián)致力于二維電子薄膜材料沉積設(shè)備研發(fā)與生產(chǎn)，在二維材料刻蝕設(shè)備方面，三和聯(lián)一直堅持自主研發(fā)，聯(lián)系電話：18910215538 半導(dǎo)體行業(yè)正面臨一個關(guān)鍵時刻。隨著硅基技術(shù)不斷突破極限，尋找新材料以跟上創(chuàng)新步伐已變得至關(guān)重要。二維 (2D) 材料正是為此而 生——這類極薄的材料有望徹底改變電子學(xué)和其他領(lǐng)域。
二維電子薄膜材料刻蝕設(shè)備
北京三和聯(lián)一直致力于二維電子薄膜材料刻蝕設(shè)備的研發(fā)與國際市場份額開拓。作為國產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備廠商，三和聯(lián)在反應(yīng)離子蝕刻的逆襲之路上艱苦創(chuàng)業(yè)，堅持自主研發(fā)。聯(lián)系電話:18910215538
反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）在聚酰亞胺去除方面的介紹
北京三和聯(lián)科技在失效分析設(shè)備國產(chǎn)化的浪潮中堅持自主研發(fā)，為拓展國產(chǎn)反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）市場積極奉獻自己的力量。作為國產(chǎn)反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）廠商，北京三和聯(lián)科技有限公司在國產(chǎn)失效分析設(shè)備的國際市場開拓、代替壟斷品牌、降低國際價格及創(chuàng)建國產(chǎn)反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）品牌方面發(fā)揮了重要作用。
IC失效分析種靜電對電子元件的影響有哪些？
北京三和聯(lián)科技有限公司，專為失效分析實驗室研發(fā)反應(yīng)離子刻蝕機FA-RIE系列產(chǎn)品，助力失效分析實驗室快速高效完成分析報告。北京三和聯(lián)專業(yè)從事國產(chǎn)IC失效分析設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與售后服務(wù)。三和聯(lián)有超過十年國內(nèi)反應(yīng)離子刻蝕機研發(fā)經(jīng)驗。失效分析實驗室是奠定半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基石，三和聯(lián)為您提供高效穩(wěn)定的FA-RIE系列產(chǎn)品。近年來北京三和聯(lián)公司研發(fā)部對失效分析實驗室的投資逐步加大，為國產(chǎn)IC失效分析設(shè)備品牌發(fā)展助力。
簡易了解反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）
在半導(dǎo)體行業(yè)中，芯片去層（Delayer）是一項至關(guān)重要的技術(shù)，廣泛應(yīng)用于失效分析、逆向工程和工藝研發(fā)等領(lǐng)域。隨著芯片制造工藝的不斷進步，器件尺寸持續(xù)縮小，結(jié)構(gòu)日益復(fù)雜，市場行業(yè)去層人員稀缺及上手培訓(xùn)時間過長。 北京三和聯(lián)科技有限公司是一家自主研發(fā)國產(chǎn)反應(yīng)離子刻蝕機廠商。經(jīng)過長期工藝驗證和客戶現(xiàn)場實際應(yīng)用，在國內(nèi)積和國際累了大量有效工藝參數(shù)和經(jīng)驗，并可實現(xiàn)硅深刻蝕。北京三和聯(lián)科技創(chuàng)國產(chǎn)反應(yīng)離子刻蝕機品牌，為國內(nèi)反應(yīng)離子刻蝕機品牌?刻助力！
淺談反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）的干法刻蝕
北京三和聯(lián)科技有限公司是一家專注于國產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備研發(fā)與生產(chǎn)的廠商，北京三和聯(lián)（“SHL”）是國內(nèi)干法刻蝕設(shè)備優(yōu)秀品牌。尤其在反應(yīng)離子刻蝕設(shè)領(lǐng)域，三和聯(lián)有著獨到的經(jīng)驗和技術(shù)。歡迎訪問RIE設(shè)備廠商北京三和聯(lián)的官網(wǎng)，了解更多國產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備更多信息
RIE的SEM樣品制備
北京三和聯(lián)科技有限公司專注于國產(chǎn)反應(yīng)離子刻蝕機研發(fā)與生產(chǎn)的廠商，北京三和聯(lián)（“SHL”）是國內(nèi)反應(yīng)離子刻蝕機優(yōu)秀品。在失效分析設(shè)備領(lǐng)域，三和聯(lián)有著獨到的經(jīng)驗和技術(shù)。歡迎訪問國產(chǎn)失效分析設(shè)備廠商北京三和聯(lián)的官網(wǎng)，了解更多國內(nèi)失效分析設(shè)備品牌相關(guān)信息。
國產(chǎn)刻蝕設(shè)備的崛起：替代浪潮背后的動力
北京三和聯(lián)科技在刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化的浪潮中堅持自主研發(fā)，為拓展國產(chǎn)刻蝕設(shè)備市場積極奉獻自己的力量。作為國產(chǎn)刻蝕設(shè)備廠商，北京三和聯(lián)科技有限公司重點研發(fā)項目包括：國產(chǎn)二維電子薄膜材料刻蝕設(shè)備、國產(chǎn)二維材料刻蝕設(shè)備、國產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備、國產(chǎn)硅基材料刻蝕設(shè)備、國產(chǎn)金屬化合物刻蝕設(shè)備等，在國產(chǎn)刻蝕設(shè)備的國際市場開拓、代替壟斷品牌、降低國際價格及創(chuàng)建國產(chǎn)刻蝕設(shè)備品牌方面發(fā)揮了重要作用。
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現(xiàn)代RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備構(gòu)成，精密工程的結(jié)晶
北京三和聯(lián)科技有限公司作為國內(nèi)推動干法刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化中重要的一份子，在干法刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化替代的浪潮中不斷開拓創(chuàng)新，打磨自身產(chǎn)品，為我國科研事業(yè)貢獻力量。RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備，以其獨特的物理化學(xué)協(xié)同機制，實現(xiàn)了對半導(dǎo)體、MEMS、光電子器件等制造中多種材料的高精度、高各向異性圖案化加工。
設(shè)備的“血液”——RIE工藝氣體
北京三和聯(lián)科技有限公司反應(yīng)離子刻蝕（RIE）設(shè)備支持H2、CH4、O2、N2、Ar、F6、CF4、CHF3、C4F8、NF3、Cl2、BCl3、HBr 9種工藝氣體，可以根據(jù)客戶的實際需求做定制化設(shè)計。工藝氣體的選擇是RIE工藝成功的關(guān)鍵?，直接影響刻蝕速率、選擇性、各向異性和表面形貌。
反應(yīng)離子刻蝕RIE的核心原理——化學(xué)與物理的共鳴
北京三和聯(lián)公司是中國國產(chǎn)反應(yīng)離子刻蝕（RIE）設(shè)備廠商之一，多年來堅持自主研發(fā)，產(chǎn)品包括爐管式化學(xué)氣相沉積、電容耦合等離子體增強化學(xué)氣相沉積及物理氣相沉積機臺等領(lǐng)域，為我國RIE反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備品牌國產(chǎn)化，打破國際壟斷助力。
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RIE設(shè)備的演進之路
北京三和聯(lián)多年以來專注于等離子體刻蝕機（RIE）國產(chǎn)化，中國離子束刻蝕機（IBE）品牌、市場開拓，自主研發(fā)國產(chǎn)刻蝕設(shè)備以及干法刻蝕設(shè)備國產(chǎn)品牌等方面的研發(fā)與生產(chǎn)，在離子刻蝕國產(chǎn)化及擴展中國離子刻蝕設(shè)備市場方面發(fā)揮著重要作用。
中國國產(chǎn)化RIE刻蝕設(shè)備的逆襲之路
北京三和聯(lián)一直致力于新型國產(chǎn)薄膜設(shè)備（LPCVD）的研發(fā)與國際市場份額開拓。作為中國國產(chǎn)刻蝕設(shè)備廠商，三和聯(lián)在中國國產(chǎn)化RIE刻蝕設(shè)備的逆襲之路上艱苦創(chuàng)業(yè)，堅持自主研發(fā)，為中國國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的發(fā)展做出了貢獻。為新型國產(chǎn)薄膜設(shè)備（LPCVD）市場份額開拓提供了強大支持。
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RIE刻蝕設(shè)備-從美國壟斷到中國國產(chǎn)化的前期背景
歡迎訪問北京三和聯(lián)官網(wǎng)，三和聯(lián)是一家國產(chǎn)化RIE刻蝕設(shè)備公司，是一家國內(nèi)干法刻蝕設(shè)備廠商。我們的RIE設(shè)備型號可分為3個，針對失效分析的客戶需求，研發(fā)了專用設(shè)備。三和聯(lián)為國產(chǎn)化品牌刻蝕設(shè)備助力。
更多國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備知識 >>
關(guān)于三和聯(lián)
技術(shù)團隊
公司定位：北京三和聯(lián)科技有限公司位于北京，面向研究所高校及創(chuàng)新型公司提供高端國產(chǎn)微納材料加工設(shè)備。公司自主研發(fā)國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備，基于在真空、材料以及半導(dǎo)體設(shè)備方面的技術(shù)累計，向客戶提供先進材料刻蝕、生長與表面處理設(shè)備及服務(wù)，提高客戶技術(shù)水平、生產(chǎn)效率與競爭力；產(chǎn)品涵蓋硅基材料、化合物半導(dǎo)體材料、以及二維薄膜材料應(yīng)用方向。
技術(shù)團隊：10人技術(shù)團隊，均擁有十年以上的半導(dǎo)體/真空/等離子方面的從業(yè)經(jīng)驗。已搭建微納工藝demo實驗平臺，包括：材料表面等離子體改性機臺、RIE刻蝕機臺、ICP刻蝕機臺、PECVD化學(xué)氣相沉積機臺、PVD物理氣相沉積機臺以及IBE離子束刻蝕機臺，其中核心工藝機臺全部是自研生產(chǎn)的國產(chǎn)設(shè)備。
三和聯(lián)科研團隊辦公室- 三和聯(lián)產(chǎn)品實驗室
國產(chǎn)二維材料生長機臺應(yīng)用展示
Si基材料刻蝕
產(chǎn)品板塊：三和聯(lián)是一家自主研發(fā)及生產(chǎn)的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠商。我們的產(chǎn)品涵蓋：干法刻蝕、化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積、表面處理及輔件五大板塊。目前面向市場的成熟設(shè)備及技術(shù)包括：離子束刻蝕、感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機臺、反應(yīng)離子刻蝕機臺、桌面型等離子體刻蝕機、電容耦合等離子體增強化學(xué)氣相沉積、爐管式化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積機臺、等離子體預(yù)處理/清洗機、冷水機 等。
聯(lián)系方式：北京三和聯(lián)可最大限度支持為您量身打造更適合您的設(shè)備，如您有需求或興趣請致電：18910215538（7*24H值班經(jīng)理）。
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新聞資訊
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北京三和聯(lián)科技有限公司是一家研發(fā)國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的廠商，重點產(chǎn)品包括：等離子體刻蝕機（RIE）丨離子束刻蝕機（IBE）丨干法刻蝕設(shè)備丨感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機（ICP）丨國產(chǎn)沉積設(shè)備等。三和聯(lián)是一家自主研發(fā)及生產(chǎn)的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠商。我們的產(chǎn)品涵蓋：干法刻蝕、化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積、表面處理及輔件五大板塊。
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